HORIBA堀场低浓度HF / HCl / NH3 浓度监测仪HF-960M最适合一浴清洗和单张清洗，高精度测量低浓度氢氟酸、盐酸和氨在半导体清洗过程中，随着器件的演进和小型化，需要将用于RCA清洗的化学溶液控制在低浓度。HF-960M 使用具有优异耐腐蚀性的传感器，可高速测量低浓度的氢氟酸、盐酸和氨水，是一浴清洗和单晶片清洗的理想选择。特征：测量 5 种 HF 浓度、HCl 浓度、NH3 浓度、
HORIBA堀场低浓度HF / HCl / NH3 浓度监测仪HF-960M
最适合一浴清洗和单张清洗，高精度测量低浓度氢氟酸、盐酸和氨
在半导体清洗过程中，随着器件的演进和小型化，需要将用于RCA清洗的化学溶液控制在低浓度。
HF-960M 使用具有优异耐腐蚀性的传感器，可高速测量低浓度的氢氟酸、盐酸和氨水，是一浴清洗和单晶片清洗的理想选择。
特征：测量 5 种 HF 浓度、HCl 浓度、NH3 浓度、电导率和温度
模拟输出可在浓度测量范围内任意设定
配备7个触点输出点
配备3个传输输出
规格：产品名称低浓度HF / HCl / NH 3浓度监测仪
型号名称HF-960M
环境温度-5 至 45°C
相对湿度20-85%（无冷凝）
储存温度-25 至 65°C
电源供应额定电压 24V DC 10W (max)
外形尺寸96 (W) x 96 (H) x 115 (D) 外壳深度：约 105 mm（安装在面板上时）
大量的约550克
符合标准CE 标志，FCC Part15
可滚动的
外形尺寸等（单位：mm）