HORIBA堀场平板碳传感器电导仪HE-960LF / FS-09F-1 / 2 浆料浓度控制的理想选择保持浆料的稀释恒定是有效的。保持适当的电导率值有助于晶片抛光工艺中的工艺稳定性。即使是高粘度的样品液（CMP Slurry），也采用了降低样品液粘附在电极上的风险的传感器结构。此外，传感器采用耐化学腐蚀的接液材料制成，满足半导体工艺的清洁度要求。除上述外，还可用于半导体工艺开发阶段的引入，以及控
HORIBA堀场平板碳传感器电导仪HE-960LF / FS-09F-1 / 2
浆料浓度控制的理想选择
保持浆料的稀释恒定是有效的。保持适当的电导率值有助于晶片抛光工艺中的工艺稳定性。
即使是高粘度的样品液（CMP Slurry），也采用了降低样品液粘附在电极上的风险的传感器结构。
此外，传感器采用耐化学腐蚀的接液材料制成，满足半导体工艺的清洁度要求。除上述外，还可用于半导体工艺开发阶段的引入，以及控制特殊化学品的导电性。
特征:
高精度/高稳定性
测量范围：0 至 2,000 μS/cm，0 至 10,000 μS/cm
重复性：±0.5% F/S，±1.0% F/S
无金属污染
由于极性材料使用特殊碳，因此无需担心金属污染洗脱。
配备浓度转换功能
通过输入化学浓度和电导率之间的关系以及温度特性，可以进行两种浓度转换。特别适用于低浓度化学品的稀释控制。
节省空间
通过比我们传统的电导率传感器小型化，提高了安装布局的自由度。