RTP-150前装式真空工艺快速加热炉 UNITEMP

RTP-150前装式真空工艺快速加热炉 UNITEMP 

前装式真空工艺快速加热炉

兼容Φ150mm（6英寸）晶圆

最高温度达到1000℃

最大加热速率 75K/秒。

设备尺寸 503 x 525 x 570 毫米（宽x深x高）

设备重量：约80公斤

原型开发应用的理想选择

加热区上下设有IR（红外线）型加热器，最高温度可达1000℃，并可高速升温75K/秒。

采用氮气吹扫法的冷却方法，可实现高达190 K/min的温降。

触摸屏用于轮廓程序控制。

除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您还可以保存过程数据。

它可以加热最大尺寸为 156 x 156 毫米或 Φ150 毫米的物体。

真空工艺快速加热炉，尽管其桌面尺寸，最高温度可达1000℃。

兼容氮气吹扫、氧气吹扫、合成气（氢气+氮气）吹扫等。

由于工作区域是气体保护的，因此可用于存在污染问题的工艺或其他关键工艺。

加热由顶部和底部的 24 个 IR（红外线）加热器进行，可实现准确、快速的加热。

与合适的真空泵结合， 可实现高达0.1 Pa (10 -3 hPa) 的真空环境。

兼容氮气吹扫法的温度下降

标准配备触摸屏显示器。通过触摸操作轻松操作

主机上最多可注册50个50段（行）的温度控制程序。