UNITEMP尤尼坦

RTP-100前装式真空工艺快速加热炉 UNITEMP兼容触摸屏式

RTP-150前装式真空工艺快速加热炉 UNITEMP RTP-100前装式真空工艺快速加热炉 UNITEMP 前装式真空工艺快速加热炉兼容Φ150mm(6英寸)晶圆最高温度达到1000℃最大加热速率 75K/秒。设备尺寸 503 x 525 x 570 毫米(宽x深x高)设备重量:约80公斤原型开发应用的理想选择加热区上下设有IR(红外线)型加热器,最高温度可达1000℃,并可高速升温75K/秒

  • 型号: RTP-100

RTP-150前装式真空工艺快速加热炉 UNITEMP 

RTP-100前装式真空工艺快速加热炉 UNITEMP 


前装式真空工艺快速加热炉

兼容Φ150mm(6英寸)晶圆

最高温度达到1000℃

最大加热速率 75K/秒。

设备尺寸 503 x 525 x 570 毫米(宽x深x高)

设备重量:约80公斤


原型开发应用的理想选择


加热区上下设有IR(红外线)型加热器,最高温度可达1000℃,并可高速升温75K/秒。

采用氮气吹扫法的冷却方法,可实现高达190 K/min的温降。

触摸屏用于轮廓程序控制。

除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外,您还可以保存过程数据。

它可以加热最大尺寸为 156 x 156 毫米或 Φ150 毫米的物体。


真空工艺快速加热炉,尽管其桌面尺寸,最高温度可达1000℃。

兼容氮气吹扫、氧气吹扫、合成气(氢气+氮气)吹扫等。

由于工作区域是气体保护的,因此可用于存在污染问题的工艺或其他关键工艺。

加热由顶部和底部的 24 个 IR(红外线)加热器进行,可实现准确、快速的加热。

与合适的真空泵结合, 可实现高达0.1 Pa (10 -3 hPa) 的真空环境。

兼容氮气吹扫法的温度下降

标准配备触摸屏显示器。通过触摸操作轻松操作


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