ULVAC爱发科

ULVAC爱发科 电弧蒸发源 APS-1

ULVAC爱发科 横振动型内部摩擦测量装置 APS-1ULVAC爱发科 横振动型内部摩擦测量装置 APS-1同时蒸发不同的“蒸发材料”。通过将本蒸发源增设在已存在的电弧等离子法纳米粒子形成装置APD系列和手持式真空腔体中,可以同时蒸发不同的“蒸发材料”,生成具有新特性的材料。特点纳米颗粒的尺寸比传统的湿法更均匀,因此能够生产高活性催化剂纳米颗粒尺寸约1.5nm至6nm任选通过改变环境可以很

  • 型号: APS-1

ULVAC爱发科  电弧蒸发源  APS-1

ULVAC爱发科  电弧蒸发源  APS-1



同时蒸发不同的“蒸发材料”。
通过将本蒸发源增设在已存在的电弧等离子法纳米粒子形成装置APD系列和手持式真空腔体中,可以同时蒸发不同的“蒸发材料”,生成具有新特性的材料。

特点

  • 纳米颗粒的尺寸比传统的湿法更均匀,因此能够生产高活性催化剂

  • 纳米颗粒尺寸约1.5nm至6nm任选

  • 通过改变环境可以很容易地产生氧化物和自然资源

  • 如果有与ICF 070(VG 50)相当的法兰,无论哪个方向都可以安装

  • 消费水冷设备,方便维护

用途

  • 多种蒸发源化合物的生成

  • 添加到现有的真空室

规格

目标尺寸Φ10mm×17mm
基材尺寸Φ2英寸(Φ50毫米)
沉积率0.01纳米/秒~0.3纳米/秒*1
膜厚均匀性Fe:<±10%(Φ20mm面积*1
可用于沉积的材料导电材料*2

*1 靶材到基板的距离:80mm
*2 靶材电阻率:0.01Ωcm以下

电弧等离子体源(APS)示意图

img_aps-101-en.png


公用事业

系统图


img_aps-105-en.png

1. 聚光箱:W110 x D320 x H200 (mm)
2. 真空室内APS本体:Φ34 x L200 (mm)
3. 电源单元:W200 x D360 x H200 (mm)
4. 控制器:W240 x D400 x高200(毫米)

※将电源单元和控制器放置在机架上。


APS 制备的纳米颗粒的 TEM 图像

img_aps-102.jpg

(左起)


  • 沉积在碳粉上分散良好的 Pt 纳米颗粒上的 Pt 纳米颗粒的 TEM 图像。

  • 基底上 Pt 纳米粒子的 TEM 图像
    随着电弧等离子体发射脉冲数的增加,纳米粒子的尺寸变得更大。

  • Pt 薄膜的 TEM 图像
    极薄的 Pt 薄膜是由纳米颗粒堆叠而成。


安装APS的沉积系统照片

img_aps-103.jpg

示例 1:带 APS 的溅射系统


img_aps-104.jpg

示例 2:配备一台 APS(APD-1P) 的电弧等离子沉积系统


ULVAC爱发科  横振动型内部摩擦测量装置  APS-1


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